- Sections
- C - Chimie; métallurgie
- C23C - Revêtement de matériaux métalliques; revêtement de matériaux avec des matériaux métalliques; traitement de surface de matériaux métalliques par diffusion dans la surface, par conversion chimique ou substitution; revêtement par évaporation sous vide, par pulvérisation cathodique, par implantation d'ions ou par dépôt chimique en phase vapeur, en général
- C23C 18/40 - Revêtement avec du cuivre en utilisant des agents réducteurs
Détention brevets de la classe C23C 18/40
Brevets de cette classe: 251
Historique des publications depuis 10 ans
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2015 | 2016 | 2017 | 2018 | 2019 | 2020 | 2021 | 2022 | 2023 | 2024 |
Propriétaires principaux
Proprétaire |
Total
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Cette classe
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Atotech Deutschland GmbH | 586 |
27 |
Rohm and Haas Electronic Materials LLC | 637 |
14 |
BYD Company Limited | 3700 |
12 |
MacDermid Enthone Inc. | 237 |
9 |
LG Chem, Ltd. | 17205 |
8 |
Eastman Kodak Company | 3444 |
7 |
Okuno Chemical Industries Co., Ltd. | 95 |
6 |
Lam Research Corporation | 4775 |
5 |
C. Uyemura & Co., Ltd. | 156 |
5 |
Tokyo Electron Limited | 11599 |
4 |
Asahi Kasei Kabushiki Kaisha | 2429 |
4 |
Fundacion Cidetec | 56 |
4 |
Solvay Specialty Polymers Italy S.p.A. | 704 |
4 |
Ajou University Industry-academic Cooperation Foundation | 877 |
3 |
Ishihara Chemical Co., Ltd. | 62 |
3 |
National Research Council of Canada | 1545 |
3 |
Toyo Kohan Co., Ltd. | 413 |
3 |
Atotech Deutschland GmbH & Co. KG | 354 |
3 |
Jiangyin NanoPore Innovative Materials Technology Ltd | 33 |
3 |
FUJIFILM Corporation | 27102 |
2 |
Autres propriétaires | 122 |